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INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao
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S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - Livro de bolso

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], PHYSIK ASTRONOMIE REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING THIN FILMS TANTALUM OXIDE STRUCTURE STOICHIOMETRY ELECTRICAL AND OPTI… mais…

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S. V. Jagadeesh Chandra S Uthanna G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - primeira edição

2011, ISBN: 9783843394222

Livro de bolso

[ED: Kartoniert / Broschiert], [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Autor/Autorin: Jagad… mais…

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Jagadeesh Chandra, S. V. Uthanna, S, Mohan Rao, G:
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications - Livro de bolso

2011

ISBN: 9783843394222

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 188 Seiten, Publiziert: 2011-01-18T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.63 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… mais…

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S V Jagadeesh Chandra:
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films Microelectronic Device Applications - Livro de bolso

2001, ISBN: 9783843394222

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Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films - Livro de bolso

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP Lambert Academic Publishing], PRINT ON DEMAND Book; New; Fast Shipping from the UK., Books

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Dados bibliográficos do melhor livro correspondente

Pormenores referentes ao livro
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications
Autor:
Título:
Número ISBN:

9783843394222


High permittivity dielectrics are studied intensively in the view of their use in the integrated circuits. However, the real emergence of tantalum oxide (Ta2O5) as a dielectric material happened due to its high-dielectric constant, chemical and thermal stability with the promise of compatibility in microelectronic processing. This book covenants with the optimized deposition conditions of Ta2O5 films formed on quartz and p-type Si substrates using dc and rf reactive magnetron sputtering method for structural and optical studies. Further, aluminum metal deposited as a top electrode on Ta2O5 and Si stack to prepare metal oxide semiconductor device for investigating electrical and dielectric properties. The possible ways for depositing good quality Ta2O5 layers on Si, to obtain high dielectric constant explained in this book are quite useful to prepare high quality metal oxide semiconductor device for capacitor applications.

Dados detalhados do livro - INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications


EAN (ISBN-13): 9783843394222
ISBN (ISBN-10): 3843394229
Livro de capa dura
Livro de bolso
Ano de publicação: 2011
Editor/Editora: LAP LAMBERT Academic Publishing

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Página de detalhes modificada pela última vez em 2023-07-16T02:15:43-03:00 (Sao Paulo)
Número ISBN/EAN: 9783843394222

Número ISBN - Ortografia alternativa:
3-8433-9422-9, 978-3-8433-9422-2
Ortografia alternativa e termos de pesquisa relacionados:
Autor do livro: mohan
Título do livro: magnetron, tantalum

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